イベント情報

• ウェビナーFTIRオンデマンドウェビナー2026

  開催日	2026/11/1(日) ～ 2026/11/30(月)
  申込期限	2026/10/28(水)

• 学会第398回ガスクロマトグラフィー研究会講演会

  開催日	2026/11/25(水) 13:00～17:15
  会場	北とぴあ13階 飛鳥ホール

• 展示会SEMICON Japan 2026

  開催日	2026/12/9(水) ～ 2026/12/11(金)
  会場	東京ビッグサイト
  ブースNo	A1324（西アトリウム）
  展示内容	マルチ四重極ICP-MS「NexION 5000」、ポスター展示（4テーマ）

  見どころ

  半導体の製造・品質管理では、元素分析だけでは解決できない課題が多くあります。基板上の異物の同定、クリーンルームの有機汚染の管理、ナノ粒子の評価などです。当社ブースでは、半導体材料の微量分析を支えるマルチ四重極ICP-MS「NexION 5000」を展示するほか、無機・有機・材料の各分野から現場の課題別に4つのテーマをポスターにてご紹介します。

  展示製品：半導体材料の微量分析を支える、マルチ四重極ICP-MS「NexION 5000」

  展示ポスター：詳しい方法や実測データなど詳細は、ブースのポスターでご覧ください。

  1. Spotlight Aurora-I 顕微IR/IRイメージングシステムによる電子基板上の異物分析と故障解析
     こんな方に：基板の異物・汚染の原因調査、故障解析をご担当の方
     スマートフォン用基板など、高密度実装が進む電子基板では、数µm～数十µmの異物や目視できない有機汚染が、はんだ濡れ不良や接点不良の原因になります。広い基板から探す時間、採取が難しい異物、膨大なスペクトルの解析。顕微FTIRの現場にはこうした悩みがつきものです。スマートフォン用基板の全体観察を大幅に短縮。採取が難しい微小異物や、目視できない有機汚染まで、どう特定するのか、実際の分析事例を交えて解説します。
  2. クリーンルーム有機系AMCのオンライン自動モニタリング - TOCアナライザ：TD300 (加熱脱着) + Clarus GC-FIDによる多点・連続自動測定
     こんな方に：クリーンルームの環境管理、露光装置・基板の汚染対策をご担当の方
     半導体製造のクリーンルームでは、露光装置の光学系や基板表面に付着する有機系の分子状汚染物質（AMC）の管理が重要です。本ポスターでは、加熱脱着装置TurboMatrix TD300とClarus GC-FIDを用い、クリーンルーム内の空気を低温トラップで濃縮・加熱脱着してGC-FIDで分離・検出する、有機系AMC（VOC）のオンライン自動モニタリングシステムをご紹介します。PLCのチャンネル切り替えで複数のサンプリングポイントを順次自動で測定し、結果は監視センターへ自動転送されます。測定原理、システム構成、測定シーケンス、標準ガスによる校正について解説します。
  3. SP-ICP-MS法による工業ナノ粒子の濃度およびサイズ測定と専用ソフトウェアSyngistix Nanoアプリケーションモジュール
     こんな方に：工業ナノ材料の評価、環境中のナノ粒子の分析をご担当の方
     工業ナノ材料は、組成が同じでもバルク材料と異なる特性を持ちます。その評価には、粒子の濃度やサイズ、溶けている成分の量まで知る必要があります。粒子と溶解成分を、1回の測定で分けて評価でき、専用ソフトウェアSyngistix Nanoアプリケーションモジュールで初めての方でも解析できる方法を紹介します。
  4. 半導体製造装置用光学素子の高度な光学特性分析 ― LAMBDA 1050+による193 nm高反射ミラーから光学薄膜までの精密測定
     こんな方に：露光装置・レーザー・検査装置用の光学部品や光学薄膜の開発、品質管理をご担当の方
     ArF露光装置などに数多く搭載される193 nm高反射ミラーには、100%に近い反射率が求められます。しかし、紫外域で、しかも実際に使う入射角や偏光の条件で反射率を正確に測ることは簡単ではありません。本ポスターでは、紫外可視近赤外分光光度計LAMBDA 1050+と自動角度可変ユニバーサル反射アクセサリ（URA）による、193 nm高反射ミラーのs偏光/p偏光絶対反射率測定をご紹介します。あわせて、OD 8の高吸光度測定、光学薄膜の屈折率と消衰係数の評価、角度可変自動測定アクセサリ（TAMS）による偏光透過/絶対反射測定についても解説します。

過去のイベント開催・参加実績