Technical Note RequestAvio 3000 ICP-OESにおける HeliPlate Plasma Technology: チラー不要で最大化された プラズマロバストネス

Avio 3000 ICP-OESにおける HeliPlate Plasma Technology: チラー不要で最大化された プラズマロバストネス

半導体材料や化学品分析で、試料マトリックスの変化によるプラズマの不安定化にお悩みではありませんか?

  • チラー不要の空冷式で、特許技術 HeliPlate が幅広いマトリックスに対応
  • 高酸・高塩・揮発性溶媒を切り替えても安定動作する電力安定性データを実測
  • 従来装置と比べた消費電力・メンテナンスコストの削減効果も資料内で解説
  • 非接触点火機構によるダウンタイム低減の仕組みも紹介

24時間の安定性試験データなど、具体的な検証結果は資料でご確認いただけます。

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