Technical Note Requestリアクションガスにアンモニアを用いたNexION 5000によるけい素の分析

NexION 5000 ICP-MS に高純度アンモニアをリアクションガスとして用いたマスシフト法により、従来の H₂ セルガス法では難しかったけい素（Si）の高感度な定量分析を実現します。

• 同位体比分析で確立された Si（NH₃）クラスター形成反応を、定量分析（総元素分析）に応用
• マルチ四重極テクノロジー（UCT）との組み合わせで、干渉を受けにくい分析を実現
• 高純度アンモニアとヘリウムの混合比を最適化し、大幅な感度向上を確認
• イオンガイドモード（Extraction／Focusing／Cold Plasma）ごとの検出下限・感度を比較検証

半導体材料の高純度化が進む中、従来の H₂ リアクションガス法では N₂⁺ や CO⁺ 由来のスペクトル干渉への対応が課題となっており、こうした背景から新たな干渉除去アプローチが求められています。ガス流量の最適化プロファイルや各条件における検量線データなど、具体的な検証結果は資料でご確認いただけます。ぜひ資料をご請求ください。