Technical Note RequestFlat Plate Plasma Technology on the Avio Max Series ICP-OES

Flat Plate Plasma Technology on the Avio Max Series ICP-OES

ICP-OES分析の安定性と運用効率を向上させる革新的プラズマ技術

ICP-OES分析では、安定したプラズマの維持が分析精度や再現性を左右する重要な要素です。しかし従来のヘリカルコイル方式では、プラズマの非対称性による試料損失や、アルゴン消費量、冷却機構の維持管理などが課題となる場合があります。また、高マトリクス試料や長時間運転を伴う分析では、安定したプラズマ性能と低ランニングコストの両立が求められます。

この資料でわかること
  • ICP-OESにおけるプラズマ生成の基本原理
  • 従来のヘリカルコイル方式が抱える課題
  • Flat Plate™プラズマ技術の仕組み
  • 対称プラズマによる試料損失低減の考え方
  • 低アルゴン流量でも安定動作を実現する理由
  • アルゴン消費量削減と感度向上のメリット
  • 冷却不要・メンテナンス不要設計の特長
このような方におすすめ
  • ICP-OESの導入を検討している方
  • ICP-OESの運用コスト削減を目指している方
  • 高マトリクス試料を分析している方
  • 装置の安定性や保守性を重視する方
  • ICP-OESの原理や最新技術を学びたい方
  • 分析ラボの生産性向上を検討している方
資料請求でご覧いただける内容

本資料では、Avio Maxシリーズに搭載されたFlat Plate™プラズマ技術について、従来のヘリカルコイル方式との違いやプラズマ形状の比較、低アルゴン流量運転の仕組み、メンテナンス性向上のポイントなどを詳しく解説しています。ICP-OESの分析性能向上とランニングコスト削減を両立する技術的な特長をご確認いただけます。

 

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