Application Note RequestNexION 5000 ICP-MS を用いた高純度シリコンマトリックス中の微量不純物分析

20 世紀後半から21 世紀初頭、シリコンが世界経済に与えた影響は大きく、シリコン時代と呼ばれていました。半導体電子機器で使用する高純度精製シリコンは、多くの分野で使用されているトランジスタや集積回路チップの製造に不可欠な存在です。金属シリコンは形態に関わらず、不純物元素を分析する必要があります。不純物の存在と濃度は、最終製品に過大な影響を与えるからです。
このアプリケーションノートでは、ICP-MS を使用したシリコンサンプルの分析事例を説明します。主に、Si によって形成される多原子イオン、使用した酸、およびプラズマガスによるスペクトル干渉を受ける元素に焦点を当てています。