Technical Note RequestNexION 5000 ICP-MSにおける干渉除去の新たな可能性

NexION 5000 ICP-MSにおける干渉除去の新たな可能性

ICP-MS分析におけるスペクトル干渉の課題を、新たなアプローチで解決

ICP-MSによる微量元素分析では、多原子イオンやマトリックス由来のスペクトル干渉が分析精度を左右する大きな課題です。従来の干渉除去技術では対応が難しいケースもあり、より複雑なマトリックスや超微量分析への対応が求められています。NexION 5000 ICP-MSは、マルチ四重極技術とユニバーサルセル(UCT)を組み合わせることで、従来のシングル四重極ICP-MSでは困難だった干渉除去を可能にし、分析対象元素を干渉のない質量域へ移動させるマスシフト分析にも対応しています。

この資料でわかること
  • ICP-MSにおけるスペクトル干渉の発生要因
  • NexION 5000のマルチ四重極構造とUCTの役割
  • MS/MSモードによる干渉除去の仕組み
  • マスシフトモードを活用した分析アプローチ
  • O2、NH3、CH4リアクションガスの特性と使い分け
  • 各元素のリアクションガス反応性の傾向
  • 複雑なマトリックス試料における分析手法開発の考え方
このような方におすすめ
  • ICP-MSによる微量元素分析を行っている方
  • スペクトル干渉に課題を感じている方
  • 半導体、環境、材料分野の分析担当者
  • 高マトリックス試料を分析している方
  • ICP-MSの分析性能を最大限活用したい方
  • NexION 5000の技術的特長を詳しく知りたい方
資料請求でご覧いただける内容

本資料では、NexION 5000 ICP-MSに搭載されたマルチ四重極技術とUCTによる干渉除去メカニズムを詳しく解説しています。O2、NH3、CH4を用いたリアクションガスの反応性評価や、Ti、Cr、Ge、As、Mo、Uなどを例としたマスシフト分析事例を通じて、複雑なスペクトル干渉を回避するための実践的なアプローチをご確認いただけます。

 

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