半導体製造で使用されるN-メチルピロリドン（NMP）は、高い純度管理が求められる重要なプロセス薬液です。微量金属不純物は製品品質や歩留まりに影響を及ぼす可能性があり、ICP-MSによる高感度分析が広く利用されています。一方で、超微量分析では標準液調製や希釈操作などの前処理工程が多く、作業者によるばらつきやコンタミネーションリスク、作業負荷の増加が課題となります。本資料では、NexION 5000 ICP-MSとASAS II（自動標準液添加装置）、ASDM（自動希釈機能付きオートサンプラー）を組み合わせた自動分析ソリューションを紹介します。
本資料では、ASAS IIおよびASDMの構成や動作原理、自動検量線作成・自動希釈のワークフロー、バックグラウンド評価、添加回収試験による精度検証などを詳しく紹介しています。分析品質を維持しながら作業効率を向上させたい方に役立つ実践的な内容です。
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