Application Note Requestリアクションガスに水素および酸素を用いたNexION 5000 ICP-MSによる超純水の分析

NexION 5000 ICP-MS に水素（H₂）・酸素（O₂）をリアクションガスとして用いることで、半導体製造に使用する超純水（UPW）中の極微量な金属汚染物質を高精度に分析できます。

• H₂・O₂を用いたユニバーサルセルテクノロジー（UCT）により、Ar⁺やArH⁺などのスペクトル干渉を効果的に除去
• SEMI F63-0521が規定する26元素に加え、追加 23 元素を含む合計 49 元素を 1 台で分析可能
• 標準添加法（MSA）による優れた検量線の直線性を実証
• イメージセンサー用途で求められるより厳しい金属汚染基準にも対応できる性能を確認

半導体の微細化に伴い超純水の純度管理が歩留まりを左右する課題となっている背景として、業界ガイドラインの厳格化が進んでいます。具体的な検出下限（MDL）とバックグラウンド相当濃度（BEC）の測定データは、ぜひ資料でご確認ください。