Application Note Requestリアクションガスに水素および酸素を用いたNexION 5000 ICP-MSによる超純水の分析

半導体製造に不可欠な超純水の品質管理を高感度・高信頼に実現

半導体デバイスの微細化が進む中、製造工程で使用される超純水（UPW）には極めて高い純度が求められています。超微量の金属不純物であってもデバイス特性や歩留まりへ影響を与える可能性があり、SEMI規格でも厳しい管理基準が定められています。しかし、超純水分析ではAr⁺、ArH⁺、ArO⁺などのスペクトル干渉が課題となり、超微量レベルでの正確な測定には高度な干渉除去技術が必要です。本資料では、NexION 5000 マルチ四重極ICP-MSとH₂・O₂リアクションガスを活用し、半導体向け超純水中の不純物元素を高感度かつ高精度に分析する手法を紹介します。

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本資料では、NexION 5000 ICP-MSを用いた超純水分析について、リアクションガスの選定方法や測定条件、49元素の分析結果、SEMI規格との比較評価まで詳しく解説しています。マルチ四重極ICP-MSによる干渉除去技術と超微量元素分析性能を確認したい方におすすめの資料です。