Application Note RequestNexION 5000 ICP-MSによる電子工業用グレード塩酸中の不純物分析

半導体デバイスの製造時には、シリコンウェーハに汚染物質や不純物がないことを確認することが重要です。洗浄プロセスに使用する高純度の化学薬品が、半導体製品全体の品質と性能を左右します。そのため、電子工業用グレードの塩酸（HCl）や過酸化水素水 中に微量金属が含まれているかどうか、分析をして確認することが不可欠になってきます。
このアプリケーションノートでは、NexION 5000 マルチ四重極ICP-MS を用い、塩酸中に含まれる不純物元素を分析した結果を紹介します。優れた干渉除去機能によって、低いBEC（バックグラウンド相当濃度）を実現しました。