Application Note RequestNexION 2000 ICP-MSにおける工業用ガスおよび半導体用特殊材料ガス中不純物の直接分析

工業用ガスとしては種々のガスが鉄鋼、自動車、エレクトロニクスなど様々な用途で使用されています。半導体用特殊材料ガスは半導体や液晶の製造工程の、ガス製膜・エッチング・クリーニング等において使用され、より高い純度が要求されます。
今回検討した気体試料導入装置GED とICP 質量分析装置を用いた方法では、ガスサンプルを直接ICP-MS に導入し、ガス中不純物粒子を測定することが可能です。本報ではGED-ICP-MS 法を用いた各種ガスサンプル中不純物の検出および定量についての評価を行いました。