Application Brief RequestprepFAST SおよびNexION 5000 ICP-MSを用いた半導体グレードTMAH の自動分析

水酸化テトラメチルアンモニウム（TMAH）は、半導体業界においてリソグラフィやフォトレジストの開発に広く使用されている塩基性溶媒です。微量金属、微粒子、有機汚染物質は半導体の機能を変化させる可能性があることから、エッチングプロセス中においてシリコンウェーハの潜在的な汚染を減らすことは非常に重要です。作業環境下での汚染をサブppt レベルで管理することは難しいため、適切にサンプル処理を実施しないとTMAH や他の化学薬液を簡単に汚染してしまう可能性があります。
このアプリケーションノートでは、パーキンエルマー社のNexION 5000 マルチ四重極ICP-MSとESI 社のprepFAST S（ウルトラクリーンモデル）サンプル導入システムを組み合わせ、半導体グレードのTMAH を分析した事例を紹介します。