Application Brief Requestマルチ四重極ICP-MS NexION 5000 を用いた超高純度N-メチル-2- ピロリドン中の金属不純物分析

近年、半導体デバイスの微細化、高性能化に伴い、歩留まりの原因となる金属汚染を防ぐことが必要不可欠となっており、それに伴い、半導体製造プロセスで使用される薬液には厳しい不純物管理が求められています。半導体製造プロセスでは、2-プロパノール（IPA）、2- アセトキシ-1- メトキシプロパン（PGMEA）、1- メトキシ-2-プロパノール（PGME）、N- メチル-2- ピロリドン（NMP）のように様々な有機溶媒が使用されます。この中でもNMP は、高沸点、低凝固点を持つため取扱いが容易であることに加え、非常に高い溶解性を持つ極性溶媒として知られています。
本報では、NexION 5000 マルチ四重極ICP-MS を用い、超高純度NMP に含まれる37 元素を分析した結果を紹介します。