Application Brief RequestprepFAST SおよびNexION 5000 ICP-MSを用いた半導体グレードふっ化水素酸の自動分析

半導体産業においてふっ化水素酸は、半導体の機能に影響を与える微量金属、微粒子、有機汚染物質からの汚染を低減するために、シリコンウェーハの洗浄工程で広く利用されています。そのため、高純度品の使用やふっ化水素酸自体の汚染物質の管理が重要です。作業環境下での汚染をppt レベルで管理することは難しいため、特別なサンプル処理が必要になることが多く、品質管理の一環として酸に含まれる微量元素を定期的に分析する必要もあります。
このアプリケーションノートでは、パーキンエルマー社のNexION 5000 マルチ四重極ICP-MSとESI 社のprepFAST S（ウルトラクリーンモデル）サンプル導入システムを組み合わせ、半導体グレードのふっ化水素酸を分析した事例を紹介します。prepFAST S の検量線自動作成機能により、分析した42 元素すべての検量線において、優れた直線性が得られました。マルチ四重極テクノロジーと四重極ベースのユニバーサルセルを持つNexION 5000 ICP-MS は、スペクトル干渉を効果的に排除して優れたBEC とLOD を達成しただけではなく、濃ふっ化水素酸のような高濃度の化学物質に対して優れた耐性を持つことも実証しました。