Application Brief RequestprepFAST S およびNexION 5000 ICP-MS を用いた半導体グレード硝酸の自動分析

半導体産業において硝酸は、半導体の機能に影響を与える微量金属、微粒子、有機汚染物質からの汚染を低減するために、シリコンウェーハの洗浄工程で広く利用されています。そのため、高純度品の使用や硝酸自体の汚染物質の管理が重要です。作業環境下での汚染をppt レベルで管理することは難しいため、特別なサンプル処理が必要になることが多く、品質管理の一環として酸に含まれる微量元素を定期的に分析する必要もあります。
このアプリケーションノートでは、パーキンエルマー社のNexION 5000 マルチ四重極ICP-MS とESI 社の prepFAST S（ウルトラクリーンモデル）サンプル導入システムを組み合わせ、半導体グレードの硝酸を分析した事例を紹介します。マルチ四重極テクノロジーと四重極ベースのユニバーサルセルを持つNexION 5000 ICP-MS は、スペクトル干渉を効果的に除去して優れたBEC とLOD を達成しただけではなく、濃硝酸のような高濃度の化学物質に対して優れた耐性を持つことも実証しました。