Application Note RequestNexION 1100 ICP-MS を用いた高純度酸化ガドリニウム中の希土類不純物の直接分析

半導体、高温超伝導体、オプトエレクトロニクスなど、高純度希土類元素（REE）の使用が欠かせない多くの産業分野では、REE 製品の純度管理に対する需要が高まっています。高純度REE 製品に含まれる微量のREE 不純物分析は、非常に重要な意味を持ちます。ガドリニウム（Gd）は、一般的に磁性化合物の製造に使用されています。代表的なものにMg-Gd 合金があり、耐食性に優れていることから、高強度・軽量化を必要とするさまざまな用途に使用されています。
これらの用途において、Gd 金属または酸化物は高純度でなければならないため、微量不純物の分析能力が非常に重要となってきます。誘導結合プラズマ質量分析法（ICP-MS）は非常に高感度な測定手法のため、高純度REE 酸化物の不純物測定に最適な技術として長い間評価されてきました。しかし、ICP-MS による分析では、マトリックス（GdO⁺、GdOH⁺、GdH⁺、GdOH₂⁺）からのスペクトル干渉の影響を受ける可能性があります。
このアプリケーションノートでは、業界で唯一3 つの四重極を持つシングルICPMSであるNexION 1100 ICP-MS を使用して、高純度Gd₂O₃分析の可能性と限界を評価しました。コストパフォーマンスに優れた測定手法として、純度5N のGd₂O₃ の評価に十分なアプリケーションとなり得ることが想定されます。