ELAN DRC II ICP質量分析装置
アルゴンやマトリックスに起因する多原子イオンを完全に除去することが可能です。特に高感度が必要な半導体分野でも今までにない検出下限値とBEC値（バックグラウンド相当濃度）を実現しました。
- ホットプラズマのみを用いたアプリケーション
クールプラズマを必要としない1500W以上の高いプラズマ条件のみを用いていることからマトリックスによる影響を受けることなく、完璧な添加回収率を可能にしました。 - AFT™（アキシャルフィールドテクノロジー）
AFT™の開発により、高感度化を実現しました。セルガスの導入により、バックグラウンドのみを除去し、目的成分の感度を保持または上昇させることに成功しました。 - 様々なサンプルへの適応可能
マイクロフローネブライザーシリーズの使用により、対応可能なサンプルの幅が広がります。 - シリコンウェハ表面回収液の超微少サンプル分析
シリコンウェハの表面を回収した200µＬレベルのサンプルも希釈することなく、30以上の元素数の繰り返し測定が可能です。 - シリコンマトリックスの影響を除去
シリコンウェハ表面を回収したサンプルでは数1000ppmのSiマトリックス濃度の影響を受けず高い回収率を実現しました。 - 高純度試薬の不純物管理
例えば塩酸中の砒素や水酸化ナトリウム中の銅など、今まで困難であったサンプルの分析を可能にしました。 - 有機溶媒にも安定した導入
ホットプラズマのみを用いるELANでは様々な有機溶媒の導入が可能です。もちろん、有機溶媒で希釈したサンプル（レジストなど）の添加回収率も完璧です。
ELAN DRC Ⅱのセル内部原理図
ELAN DRC Ⅱの構成図
Siマトリックスによる影響
数1000ppmSiでも完璧な回収率を実現しました。
20%塩酸中のCrの測定
■仕様 |
| 質量範囲 | 1-270amu |
| 試料導入部 | 同軸型ネブライザー サイクロン型スプレーチャンバー 石英製インジェクター |
| DRC部使用ガス量 | 0-3mL/分マスフロー制御 |
| 検出部 | 2ステージディスクリート形 SimulScan™同時検出 |
| サイズ/重量 | 990（幅）×1170（高さ）×730（奥行）mm, 295kg |