NexION 5000 SP-ICP-MSによる半導体グレード硫酸中の金属ナノ粒子の分析 - PerkinElmer Japan

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NexION 5000 SP-ICP-MSによる半導体グレード硫酸中の金属ナノ粒子の分析

半導体や電子製品の製造工程では、精製された特別な化学薬液が使用されています。半導体や関連製品の製造は本質的に複雑であることから、使用する化学薬液に含まれる不純物を厳密に管理することが、化学薬液の供給業者や現場の使用者には求められています。
シングルパーティクルモードで使用するICP-MS(SP-ICP-MS)は、ナノ粒子の検出や測定に有用な技術であることが知られており、無機物の組成、粒子濃度、粒子サイズ、サイズ分布、凝集などナノ粒子の様々な特性を把握することが可能です。
このアプリケーションノートでは、NexION 5000 マルチ四重極ICP-MS を使用して、1% 硫酸中のナノ粒子不純物を分析し、半導体産業で使用される薬液のルーチン分析への適合性を評価しました。

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