半導体製品における金属汚染はデバイスの性能に悪影響を及ぼし、製造プロセスの歩留まりにも影響を与えます。
第4 級アンモニウム塩である水酸化テトラメチルアンモニウム（TMAH）は、フォトリソグラフィや液晶ディスプレイ（LCD）で使用されるフォトレジストの開発で広く使われる化学薬品の1 つです。品質管理の厳しい用途で広く使用されているため、TMAH 中の不純物分析はますます重要になっています。半導体用薬液に含まれるナノスケールの不純物の特性を明らかにするためには、溶液不純物とナノ粒子不純物の両方について、極めて低濃度まで測定できる分析技術が必要となります。
本報では、希釈したTMAH をNexION 5000 マルチ四重極ICP-MS（PerkinElmer Inc.、Shelton、Connecticut、USA）のシングルパーティクルモード（SP-ICP-MS）を例として、半導体産業で使用する薬液の特性評価について説明します。