Application Note Request
NexION 5000 ICP-MS を使用したIC 製造向け有機溶媒中の金属不純物分析

NexION 5000 マルチ四重極 ICP-MS は、非常に低いバックグラウンド相当濃度(BEC)と卓越した検出下限値を実現し、半導体産業において酸性、塩基性、有機化合物中の汚染物質濃度を非常に低レベルまで定量化することが可能です。
本アプリケーションノートでは、半導体産業で一般的に使用されている有機溶媒 (IPA, PGMEA, NMP) に含まれる46元素を分析した結果をご紹介します。