半導体産業において硫酸 (H2SO4) は、シリコンウェーハ上の不純物エッチング、チップ製造工程におけるフォトレジストの剥離に利用されています。微量金属、微粒子、有機汚染物質は半導体の機能を変化させる可能性があることから、シリコンウェーハの潜在的な汚染を減らすことは非常に重要です。作業環境下でのサブpptレベルで管理することは難しいため、適切にサンプル処理しないと H2SO4 や他の化学薬液を簡単に汚染してしまう可能性があります。
このアプリケーションノートでは、PerkinElmer の NexION 5000 マルチ四重極 ICP-MS を ESI社のprepFAST S（ウルトラクリーンモデル）サンプル導入システムを組み合わせ、半導体グレードH2SO4を分析した事例を紹介します。