水酸化テトラメチルアンモニウム (TMAH) は、半導体業界においてリソグラフィやフォトレジストの開発に広く使用されている塩基性溶媒です。微量金属、微粒子、有機汚染物質は半導体の機能を変化させる可能性があることから、エッチングプロセス中にシリコンウェーハの潜在的な汚染を減らすことは非常に重要です。作業環境下での汚染をサブpptレベルで管理することは難しいため、適切にサンプル処理しないと TMAH や他の化学薬液を簡単に汚染してしまう可能性があります。
このアプリケーションノートでは、PerkinElmer の NexION 5000 マルチ四重極 ICP-MS と ESI社の prepFAST S（ウルトラ超クリーンモデル）サンプル導入システムを組み合わせ、半導体グレードのTMAH を分析した事例を紹介します。